国家/地区 中国（3） 欧洲专利局（EPO）（3） 以色列（3） 印度（3） 日本（3） 韩国（3） 俄罗斯（3） 新加坡（3） 台湾（3） 美国（3） 世界知识产权组织（3）
IPC部 B（3）
IPC大类 B82（3）
IPC小类 B82Y（3）
IPC B82Y030/00（3）
发明人 FENG X（3） MUELLEN K（3） MULLEN K（3）
MILLEN K（2） SCHVAB M G（2） SCHWAB M G（2）
SCHWAB M G S（2）
公开年 2013（3）
申请年 2012（2） 
专利权人 BASF AG（3）

Graphene nanoribbon used for e.g. spintronic device, contains repeating unit having modification(s) chosen from heteroatomic substitution, vacancy, stone-wales defect, inverse stone-wales defect, and hybridized carbon network.

FASEL R, RUFFIEUX P, MUELLEN K, CAI J, FENG X, BERGER R, TSAI J, CAI Y, MULLEN K, MILLEN K

New oligophenylene monomer useful for preparing a polymeric precursor for producing graphene nanoribbons useful in an electronic, optical, or optoelectronic device.

SCHWAB M G, NARITA A, FENG X, MUELLEN K, MULLEN K, SCHWAB M G S, SCHVAB M G, MILLEN K

New graphene nanoribbon precursors comprising polycyclic aromatic hydrocarbon repeat units, used in graphene nanoribbons for field-effect transistors.

SCHWAB M G S, MUELLEN K, FENG X, DOESSEL L, SCHWAB M G, MULLEN K, DOSSEL L, SCHVAB M G