国家/地区 韩国（2）
IPC部 B（2）
IPC大类 B82（2） C01（2） C09（2）
H01（2）
IPC小类 B82Y（2）
IPC B82Y030/00（2）
发明人
公开年 2011（2）
申请年 2010（2） 
专利权人

Reducing agent used for manufacturing reduced graphene oxide for, e.g. semiconductors, comprises reducing agent with halogen element, preferably hydrogen iodide, and acid, with acidity of acid being weaker than that of reducing agent.

LEE H Y, LEE J H, MOON I K

Graphene dispersion used for manufacturing graphene-ionic liquid polymer composite, comprises graphite dispersed in ionic liquid.

SUH K S, KIM J E, KIM T Y, KIM J, KIM T