国家/地区 中国（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C11（2）
IPC小类 C11D（2）
IPC C11D003/12（2） C11D003/20（2） C11D003/382（2）
C11D003/60（2）
发明人
公开年 2015（2）
申请年 2015（2） 
专利权人

Cleaning liquid for sapphire substrate wafer, contains surfactant that is formed using graphene, urea, stearic acid, acetone, Nepeta oil, diethylaminoethanol, and cinnamaldehyde diethyl acetal.

HE G

Multipurpose oil detergent comprises acrylic acid, alkyl phosphate, alkyl aryl sulfonate, tris(hydroxyethyl)methylammonium methylsulfate, sodium lauryl sulfate, tea seed powder, tea tree oil, chitosan-graphene composite and water.

CHEN M