国家/地区 中国（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C23（2）
IPC小类 C23C（2）
IPC C30B033/02（2）
发明人 TANG J（2）
公开年
申请年 2021（2）
专利权人

Preparing a metal wafer substrate involves forming metal thin film on the sapphire substrate by magnetron sputtering, and annealing under mixed atmosphere of hydrogen and argon.

PENG H, YANG Y, CAO Y, TANG J, YAN R, DU Y

Preparation of gallium nitride epitaxial structure by providing a silicon carbide substrate, pre-processing, growing a graphene film, growing diamond film, growing aluminum nitride polycrystalline film, and annealing.

PAN Y, FENG H, TANG J