国家/地区 | 世界知识产权组织(3) 韩国(2) 美国(2) |
IPC部 |
C(4)![]() |
IPC大类 |
C01(4)![]() |
IPC小类 |
C01B(4)![]() |
IPC |
D01D005/06(4)![]() |
发明人 |
CHO K R(2)
CHO Y J(2)
KIM H J(2)
PARK S Y(2) SHIN M K(2) YEO C S(2) |
公开年 |
2017(4)![]() |
申请年 | 2016(2) 2017(2) |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
CHOU W, LAI M, HUANG K, CHOU S, HSU C, CHOU W T, LAI M Y, HUANG K S, CHOU S H, HSU C Y