国家/地区 |
美国(3)![]() |
IPC部 |
C(3)![]() |
IPC大类 |
C09(3)
D01(3)
H01(2)
|
IPC小类 |
C09D(3)![]() |
IPC |
D01D005/00(3)![]() |
发明人 |
CHO K(2)
CHO Y(2)
KIM H(2)
PARK S(2) SHIN M(2) YEO C(2) |
公开年 | 2018(2) |
申请年 | |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
ROGERS R D, ZAVGORODNYA O, SHAMSHINA J L, GURAU G