国家/地区 | 中国(2) 韩国(2) 世界知识产权组织(2) |
IPC部 |
C(4)![]() |
IPC大类 |
C01(4)![]() |
IPC小类 |
C01B(4)![]() |
IPC |
C01B032/182(2)
C01B032/184(2)
D01D005/00(2)
D01D005/06(2) D01D010/06(2) D01F009/12(2) |
发明人 |
CHO K R(2)
CHO Y J(2)
KIM H J(2)
PARK S Y(2) SHIN M K(2) SUN Y(2) YEO C S(2) |
公开年 | 2017(3) |
申请年 |
2017(4)![]() |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
DAI Y, FU W, ZHOU J, MA R, HUANG Y, SUN Y
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
WU D, DENG L, SUN Y, ZHU Y, LUO Y, ZHAO Y, WANG L, LIN L