国家/地区 中国(2) 韩国(2) 世界知识产权组织(2)
IPC部 C(4)
IPC大类 C01(4)
IPC小类 C01B(4)
IPC C01B032/182(2) C01B032/184(2) D01D005/00(2)
D01D005/06(2) D01D010/06(2) D01F009/12(2)
发明人 CHO K R(2) CHO Y J(2) KIM H J(2)
PARK S Y(2) SHIN M K(2) SUN Y(2)
YEO C S(2)
公开年 2017(3)
申请年 2017(4)
专利权人 AICT(2) PURITECH CO .(2)