国家/地区 |
韩国(5)![]() |
IPC部 |
D(5)![]() |
IPC大类 |
D01(5)![]() |
IPC小类 |
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IPC |
D01D005/06(4)
D01F001/10(3)
D01F009/12(3)
D01D010/06(2) G01K013/02(2) |
发明人 |
CHO K(2)
CHO Y J(2)
HUN C S(2)
JIN K H(2) JU S H(2) KIM H(2) KIM Y S(2) KYOON S M(2) KYUNG L(2) PARK S Y(2) SU Y C(2) YOO J(2) |
公开年 | 2021(2) |
申请年 | 2020(3) |
专利权人 | ADVANCED CON.(2) PURITECH CO .(2) |
PARK J Y, SUDIP, TRILOCHAN, SOHEL, YOON H S, PARK C Y
SUKJIWON, LEE H J, VO T
TRAN T S, ROY CHOUDHURY N, DUTTA N, ROY C N, AWARD T, ROICHOUDURINAMITA, DUTANABA, DUTA N
PARK S Y, SU Y C, CHO Y J, CHO K, JIN K H, KYUNG L, KIM H, HUN C S, KIM Y S, KYOON S M, YOO J, JU S H
PARK S Y, SU Y C, CHO Y J, CHO K, JIN K H, KYUNG L, KIM H, HUN C S, KIM Y S, KYOON S M, YOO J, JU S H