国家/地区 中国（4） 欧洲专利局（EPO）（4） 以色列（4） 日本（4） 韩国（4） 俄罗斯（4） 新加坡（4） 台湾（4） 美国（4） 世界知识产权组织（4） 印度（3）
IPC部 C（4）
IPC大类 C01（4）
IPC小类 C01B（4）
IPC C01B031/04（4） B82Y030/00（3） B82Y040/00（3）
C01B031/02（3） C07C015/14（3） C08G061/10（3）
C07B037/12（2） C07C002/50（2） C07C017/30（2）
C07C025/18（2） C08L065/00（2）
发明人 MUELLEN K（4）
公开年 2013（4）
申请年 2012（3） 
专利权人 BASF AG（4） BASF CHINA C.（4） BASF SE（4） MAX PLANCK G.（4）

Graphene nanoribbon used for e.g. spintronic device, contains repeating unit having modification(s) chosen from heteroatomic substitution, vacancy, stone-wales defect, inverse stone-wales defect, and hybridized carbon network.

FASEL R, RUFFIEUX P, MUELLEN K, CAI J, FENG X, BERGER R, TSAI J, CAI Y, MULLEN K, MILLEN K

New oligophenylene monomer useful for preparing a polymeric precursor for producing graphene nanoribbons useful in an electronic, optical, or optoelectronic device.

SCHWAB M G, NARITA A, FENG X, MUELLEN K, MULLEN K, SCHWAB M G S, SCHVAB M G, MILLEN K

New oligophenylene monomers, useful for synthesizing polymeric precursors for preparing graphene nanoribbons.

IVANOVICI S, SCHWAB M G S, FENG X, MUELLEN K, SCHWAB M G, MULLEN K, KLAUS M, SCHVAB M G, SCHWAB M, MILLEN K

New graphene nanoribbon precursors comprising polycyclic aromatic hydrocarbon repeat units, used in graphene nanoribbons for field-effect transistors.

SCHWAB M G S, MUELLEN K, FENG X, DOESSEL L, SCHWAB M G, MULLEN K, DOSSEL L, SCHVAB M G