国家/地区 韩国(4) 世界知识产权组织(4) 日本(3) 中国(2) 美国(2)
IPC部 C(5)
IPC大类 C01(5)
IPC小类 C01B(5)
IPC C01B032/182(5)
发明人 CHO K R(2) CHO Y J(2) KIM H J(2)
PARK S Y(2) SHIN M K(2) YEO C S(2)
公开年 2017(5)
申请年 2017(3)  2015(2) 
专利权人 AICT(2) PURITECH CO .(2)