国家/地区 世界知识产权组织(6) 中国(4) 韩国(4) 日本(3) 美国(3)
IPC部 C(7)
IPC大类 C01(7) D01(5) C08(3)
B29(2) B82(2)
IPC小类 C01B(7)
IPC C01B032/182(7)
发明人 CHO K R(2) CHO Y J(2) KIM H J(2)
PARK S Y(2) SHIN M K(2) YEO C S(2)
公开年 2017(7)
申请年 2017(5)  2015(2) 
专利权人 AICT(2) PURITECH CO .(2)