国家/地区 中国（3）
IPC部 C（3）
IPC大类 C01（3） H01（3） C07（2）
C23（2）
IPC小类 C01B（3）
IPC C01B031/02（3）
发明人 MILLEN K（2） MUELLEN K（2）
公开年 2014（2）
申请年 2013（3）
专利权人 BASF CHINA C.（2） BASF SE（2） MAX PLANCK G.（2）

Use of amine precursor or its ammonium salt for depositing graphene film on substrate by chemical vapor deposition (CVD).

SCHWAB M G, MUELLEN K, SACHDEV H, ITO Y, SCHWAB M G S, MILLEN K

New oligophenylene monomer useful in polymeric precursor for preparing graphene nanoribbons that used are in thin film semiconductor of electronic, optical, or optoelectronic device e.g. organic field effect transistor device.

MUELLEN K, FENG X, CAI J, RUFFIEUX P, FASEL R, NARITA A, TSAI J, MULLEN K, MILLEN K

Fabricating graphene film for forming graphene based device e.g. dielectric capacitor, by heating substrate at specific temperature in chamber, introducing carbon source into the chamber and cooling substrate to room temperature.

OZKAN C S, OZKAN M, GUVENC A B, PAUL R K, LIN J, GHAZINEJAD M, PENCHEV M, GUO S, ZHONG J, HAYASHI K