国家/地区 中国（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C01（2）
IPC小类 C01B（2）
IPC C01B032/184（2）
发明人 LIN Z（2）
公开年
申请年 2016（2）
专利权人

Method of making a pellicle for use in extreme ultraviolet (EUV) lithography system, by depositing graphene layer over first material layer, and depositing amorphous silicon layer over graphene layer.

TU C, CHEN C, YOO C S, CHANG J, TSAI C, LIU P, LEE H, LIN C, LIN Y, TU Z, CHEN J, CAI J, YOU Q, ZHANG Z, LIN Z, LIU B, LI X, YOO C

Graphene particles used for electrode active material for electrochemical device, are three-dimensional porous containing folded graphene sheet, and having average diameter of specified value.

LIM J C, LEE J H, PARK H S, LIN Z, LI T, PIAO X, LIM J, HYUN L J, HUNSOO P