国家/地区 |
世界知识产权组织(20)![]() |
IPC部 |
C(20)![]() |
IPC大类 |
C01(20)
D01(14)
C08(6)
B01(5) C09(5) D06(5) H01(4) B29(3) B82(3) B05(2) B33(2) C02(2) D02(2) D04(2) D21(2) |
IPC小类 |
C01B(20)![]() |
IPC |
C01B032/182(20)![]() |
发明人 |
GAO C(3)
CHO K R(2)
CHO Y J(2)
KIM H J(2) PARK S Y(2) SHIN M K(2) YEO C S(2) |
公开年 | 2017(6) 2021(3) 2014(2) 2015(2) 2016(2) 2023(2) |
申请年 | 2017(6) 2014(3) 2015(3) 2020(2) 2022(2) |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) UNIV ZHEJIAN.(2) |
OH Y S, UM M K, YI J W, JANG H K, PARK B H, LEEJINWOO, KYEONG J
AMIRTHASAMY J B, LAHA A, RAJE V P, CHOUDRY D R, SHUKLA M K, NIGAM P, REKHI S S, BALACHANDRAN V S, NANDY M, GOSWAMI K
TRAN T S, ROY CHOUDHURY N, DUTTA N, ROY C N, AWARD T, ROICHOUDURINAMITA, DUTANABA, DUTA N
YOSHIOKA Y, MOTOJIMA N, NAKAYAMA T
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R