国家/地区 中国（3）
IPC部 B（3）
IPC大类 B82（3）
IPC小类 B82Y（3）
IPC B82Y030/00（3）
发明人 FENG X（3） MUELLEN K（3） MULLEN K（3）
MILLEN K（2） SCHVAB M G（2） SCHWAB M G（2）
SCHWAB M G S（2）
公开年 2013（3）
申请年 2012（2） 
专利权人 BASF AG（3） BASF CHINA C.（3） BASF SE（3） MAX PLANCK G.（3）

Graphene nanoribbon used for e.g. spintronic device, contains repeating unit having modification(s) chosen from heteroatomic substitution, vacancy, stone-wales defect, inverse stone-wales defect, and hybridized carbon network.

FASEL R, RUFFIEUX P, MUELLEN K, CAI J, FENG X, BERGER R, TSAI J, CAI Y, MULLEN K, MILLEN K

New oligophenylene monomer useful for preparing a polymeric precursor for producing graphene nanoribbons useful in an electronic, optical, or optoelectronic device.

SCHWAB M G, NARITA A, FENG X, MUELLEN K, MULLEN K, SCHWAB M G S, SCHVAB M G, MILLEN K

New graphene nanoribbon precursors comprising polycyclic aromatic hydrocarbon repeat units, used in graphene nanoribbons for field-effect transistors.

SCHWAB M G S, MUELLEN K, FENG X, DOESSEL L, SCHWAB M G, MULLEN K, DOSSEL L, SCHVAB M G