国家/地区 | 美国(6) 中国(4) 欧洲专利局(EPO)(3) 世界知识产权组织(3) |
IPC部 |
C(8)
D(8)
B(4)
H(4) G(2) |
IPC大类 |
C09(8)
D01(8)
C01(4)
B01(3) C08(3) H01(3) G01(2) |
IPC小类 |
C09D(8)![]() |
IPC |
D01F009/12(8)![]() |
发明人 |
CHO K(2)
CHO Y(2)
ENDO M(2)
KIM H(2) PARK S(2) SHIN M(2) YEO C(2) |
公开年 | 2021(2) |
申请年 | 2022(2) |
专利权人 | AICT(2) ENDO M(2) PURITECH CO .(2) |
LI W, HE C, CAI M, ZHANG Y, FAN X
WANG J, NIU Y, GUO X, ZHU T, MU C
AMIRTHASAMY J B, LAHA A, RAJE V P, CHOUDRY D R, SHUKLA M K, NIGAM P, REKHI S S, BALACHANDRAN V S, NANDY M, GOSWAMI K
TRAN T S, ROY CHOUDHURY N, DUTTA N, ROY C N, AWARD T, ROICHOUDURINAMITA, DUTANABA, DUTA N
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
CRUZSILVA R, MORELOS A, TERRONES M, ELIAS A L, PEREALOPEZ N, ENDO M