| 国家/地区 | 中国(4) 韩国(3) |
| IPC部 | D(8) G(8) |
| IPC大类 |
D01(8)
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| IPC小类 |
D01D(8)
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| IPC |
D01F001/10(8)
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| 发明人 |
CHO K(2)
CHO Y J(2)
HUN C S(2)
JIN K H(2) JU S H(2) KIM H(2) KIM Y S(2) KYOON S M(2) KYUNG L(2) PARK S Y(2) SU Y C(2) YOO J(2) |
| 公开年 | 2022(4) 2021(2) |
| 申请年 | 2021(3) 2020(2) 2022(2) |
| 专利权人 | ADVANCED CON.(2) PURITECH CO .(2) |
PAN Z, YAN T, TANG J
PARK J Y, SUDIP, TRILOCHAN, SOHEL, YOON H S, PARK C Y
TAO G, LI P, OUYANG J, XIA Z
SHEN Y, FAN Y, NAN C
PARK S Y, SU Y C, CHO Y J, CHO K, JIN K H, KYUNG L, KIM H, HUN C S, KIM Y S, KYOON S M, YOO J, JU S H
PARK S Y, SU Y C, CHO Y J, CHO K, JIN K H, KYUNG L, KIM H, HUN C S, KIM Y S, KYOON S M, YOO J, JU S H
