国家/地区 | 中国(7) 韩国(3) |
IPC部 |
D(11)![]() |
IPC大类 |
D01(11)
G01(8)
D04(3)
D02(2) D06(2) G21(2) |
IPC小类 |
D01D(11)![]() |
IPC |
D01F001/10(11)![]() |
发明人 |
CHO K(2)
CHO Y J(2)
HUN C S(2)
JIN K H(2) JU S H(2) KIM H(2) KIM Y S(2) KYOON S M(2) KYUNG L(2) PARK S Y(2) SU Y C(2) YOO J(2) |
公开年 | 2022(4) 2021(3) |
申请年 | 2021(4) 2018(2) 2020(2) 2022(2) |
专利权人 | ADVANCED CON.(2) PURITECH CO .(2) |
PAN Z, YAN T, TANG J
PARK J Y, SUDIP, TRILOCHAN, SOHEL, YOON H S, PARK C Y
LENG J, SHANG W, LIU J, WEI H, CHEN S, MA Y, LIU Z
TAO G, LI P, OUYANG J, XIA Z
SHEN Y, FAN Y, NAN C
PARK S Y, SU Y C, CHO Y J, CHO K, JIN K H, KYUNG L, KIM H, HUN C S, KIM Y S, KYOON S M, YOO J, JU S H
PARK S Y, SU Y C, CHO Y J, CHO K, JIN K H, KYUNG L, KIM H, HUN C S, KIM Y S, KYOON S M, YOO J, JU S H