| 国家/地区 | 世界知识产权组织(3) 韩国(2) 美国(2) |
| IPC部 | C(4) D(4) |
| IPC大类 |
C01(4)
|
| IPC小类 |
C01B(4)
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| IPC |
D01D005/06(4)
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| 发明人 |
CHO K R(2)
CHO Y J(2)
KIM H J(2)
PARK S Y(2) SHIN M K(2) YEO C S(2) |
| 公开年 |
2017(4)
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| 申请年 | 2016(2) 2017(2) |
| 专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
CHOU W, LAI M, HUANG K, CHOU S, HSU C, CHOU W T, LAI M Y, HUANG K S, CHOU S H, HSU C Y
