国家/地区 |
韩国(4)![]() |
IPC部 |
D(4)![]() |
IPC大类 | D01(4) G01(4) |
IPC小类 |
D01D(4)![]() |
IPC |
D01D005/06(4)![]() |
发明人 |
CHO K(2)
CHO Y J(2)
HUN C S(2)
JIN K H(2) JU S H(2) KIM H(2) KIM Y S(2) KYOON S M(2) KYUNG L(2) PARK S Y(2) SU Y C(2) YOO J(2) |
公开年 | 2021(2) |
申请年 | 2020(2) |
专利权人 | ADVANCED CON.(2) PURITECH CO .(2) |
SUKJIWON, LEE H J, VO T
TRAN T S, ROY CHOUDHURY N, DUTTA N, ROY C N, AWARD T, ROICHOUDURINAMITA, DUTANABA, DUTA N
PARK S Y, SU Y C, CHO Y J, CHO K, JIN K H, KYUNG L, KIM H, HUN C S, KIM Y S, KYOON S M, YOO J, JU S H
PARK S Y, SU Y C, CHO Y J, CHO K, JIN K H, KYUNG L, KIM H, HUN C S, KIM Y S, KYOON S M, YOO J, JU S H