国家/地区 中国（3）
IPC部 C（3）
IPC大类 C01（3）
IPC小类 C01B（3）
IPC C01B031/04（3） C01B031/02（2） C07B037/12（2）
C07C002/50（2） C07C015/14（2） C07C017/30（2）
C07C025/18（2） C07C025/22（2） C08G061/10（2）
发明人 FENG X（3）
公开年 2013（2）
申请年 2012（2） 
专利权人 BASF CHINA C.（3） BASF SE（3） MAX PLANCK G.（3） BASF AG（2）

Edge-halogenation of graphene material used for electronic/optical/optoelectronic device involves reacting graphene material e.g. graphene, graphene nanoribbon, and/or graphene molecule with halogen-donor compound in presence of Lewis acid.

HINTERMANN T, MUELLEN K, FENG X, TAN Y, MULLEN K, TAN Y Z

New oligophenylene monomers, useful for synthesizing polymeric precursors for preparing graphene nanoribbons.

IVANOVICI S, SCHWAB M G S, FENG X, MUELLEN K, SCHWAB M G, MULLEN K, KLAUS M, SCHVAB M G, SCHWAB M, MILLEN K

New graphene nanoribbon precursors comprising polycyclic aromatic hydrocarbon repeat units, used in graphene nanoribbons for field-effect transistors.

SCHWAB M G S, MUELLEN K, FENG X, DOESSEL L, SCHWAB M G, MULLEN K, DOSSEL L, SCHVAB M G