国家/地区 Korea（2）
关键词 CONTACT RESISTANCE（2）
出版物
出版时间
机构 SUNGKYUNKWAN.（2）
作者 PARK JH（2）

Metal-Graphene Contact Resistance Reduction Through Phosphosilicate Glass-Based n-Type Doping

SCIENCE OF ADVANCED MATERIALS

PARK HY, PARK JH

Extremely Low Contact Resistance on Graphene through n-Type Doping and Edge Contact Design

ADVANCED MATERIALS

PARK HY, JUNG WS, KANG DH, JEON J, YOO G, PARK Y, LEE J, JANG YH, LEE J, PARK S, YU HY, SHIN B, LEE S, PARK JH