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DE FAZIO D, UZLU B, TORRE I, MONASTERIOBALCELLS C, GUPTA S, KHODKOV T, BI Y, WANG ZX, OTTO M, LEMME MC, GOOSSENS S, NEUMAIER D, KOPPENS FHL
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VATS N, WANG Y, SEN S, SZILAGYI S, OCHNER H, ABB S, BURGHARD M, SIGLE W, KERN K, VAN AKEN PA, RAUSCHENBACH S
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EHLEN N, HELL M, MARINI G, HASDEO EH, SAITO R, FALKE Y, GOERBIG MO, DI SANTO G, PETACCIA L, PROFETA G, GRUNEIS A
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NEUMANN C, KAISER D, MOHN MJ, FUSER M, WEBER NE, REIMER O, GOLZHAUSER A, WEIMANN T, TERFORT A, KAISER U, TURCHANIN A
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PASCHKE F, ERLER P, ENENKEL V, GRAGNANIELLO L, FONIN M
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ZHANG XH, MARSCHEWSKI E, PENNER P, WEIMANN T, HINZE P, BEYER A, GOLZHAUSER A
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HERBIG C, AHLGREN EH, JOLIE W, BUSSE C, KOTAKOSKI J, KRASHENINNIKOV AV, MICHELY T
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YU HK, BALASUBRAMANIAN K, KIM K, LEE JL, MAITI M, ROPERS C, KRIEG J, KERN K, WODTKE AM
Chemical Vapor Deposition of N-Doped Graphene and Carbon Films: The Role of Precursors and Gas Phase
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ITO Y, CHRISTODOULOU C, NARDI MV, KOCH N, SACHDEV H, MULLEN K
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LEICHT P, ZIELKE L, BOUVRON S, MORONI R, VOLOSHINA E, HAMMERSCHMIDT L, DEDKOV YS, FONIN M