国家/地区 Korea（3）
关键词
出版物 AIP ADVANCES（2）
出版时间 2018（3）
机构 GWANGJU INST SCI TECHNOL（3）
作者 HWANG HJ（3）

Facile process to clean PMMA residue on graphene using KrF laser annealing

AIP ADVANCES

HWANG HJ, LEE Y, CHO C, LEE BH

Zero-Bias Operation of CVD Graphene Photodetector with Asymmetric Metal Contacts

ACS PHOTONICS

YOO TJ, KIM YJ, LEE SK, KANG CG, CHANG KE, HWANG HJ, REVANNATH N, LEE BH

Graphene-ZnO: N barristor on a polyethylene naphthalate substrate

AIP ADVANCES

HWANG HJ, HEO S, YOO WB, LEE BH