| 国家/地区 | Usa（7） |
| 关键词 |
EPITAXIAL GRAPHENE .（2）
GRAPHENE（2）
QUANTIZED HALL RESI.（2）
STANDARD RESISTOR（2） |
| 出版物 | IEEE TRANSACTIONS O.（2） |
| 出版时间 | 2018（3） 2017（2） 2020（2） |
| 机构 |
NIST（8）
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| 作者 |
LEE HY（8）
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IEEE TRANSACTIONS ON INSTRUMENTATION MEASUREMENT
OE T, RIGOSI AF, KRUSKOPF M, WU BY, LEE HY, YANG YF, ELMQUIST RE, KANEKO NH, JARRETT DG
ACS APPLIED ELECTRONIC MATERIALS
WU BY, YANG YF, RIGOSI AF, HU JN, LEE HY, CHENG GJ, PANCHAL V, KRUSKOPF M, JIN H, WATANABE K, TANIGUCHI T, NEWELL DB, ELMQUIST RE, LIANG CT
IEEE TRANSACTIONS ON INSTRUMENTATION MEASUREMENT
RIGOSI AF, PANNA AR, PAYAGALA SU, KRUSKOPF M, KRAFT ME, JONES GR, WU BY, LEE HY, YANG YF, HU JN, JARRETT DG, NEWELL DB, ELMQUIST RE
SCIENTIFIC REPORTS
HU JN, RIGOSI AF, KRUSKOPF M, YANG YF, WU BY, TIAN JF, PANNA AR, LEE HY, PAYAGALA SU, JONES GR, KRAFT ME, JARRETT DG, WATANABE K, TANIGUCHI T, ELMQUIST RE, NEWELL DB
PHYSICAL REVIEW B
HU JN, RIGOSI AF, LEE JU, LEE HY, YANG YF, LIU CI, ELMQUIST RE, NEWELL DB
MICROELECTRONIC ENGINEERING
RIGOSI AF, LIU CI, WU BY, LEE HY, KRUSKOPF M, YANG YF, HILL HM, HU JN, BITTLE EG, OBRZUT J, WALKER ARH, ELMQUIST RE, NEWELL DB
SMALL
RIGOSI AF, GLAVIN NR, LIU CI, YANG YF, OBRZUT J, HILL HM, HU JN, LEE HY, WALKER ARH, RICHTER CA, ELMQUIST RE, NEWELL DB
2D MATERIALS
LIU CW, CHUANG CS, YANG YF, ELMQUIST RE, HO YJ, LEE HY, LIANG CT