| 国家/地区 | Usa（4） |
| 关键词 |
CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION（5）
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| 出版物 |
APPLIED PHYSICS LETTERS（5）
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| 出版时间 |
2010（5）
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| 机构 | |
| 作者 |
APPLIED PHYSICS LETTERS
TEDESCO JL, JERNIGAN GG, CULBERTSON JC, HITE JK, YANG Y, DANIELS KM, MYERSWARD RL, EDDY CR, ROBINSON JA, TRUMBULL KA, WETHERINGTON MT, CAMPBELL PM, GASKILL DK
APPLIED PHYSICS LETTERS
VERMA VP, DAS S, LAHIRI I, CHOI W
APPLIED PHYSICS LETTERS
CAO HL, YU QK, JAUREGUI LA, TIAN J, WU W, LIU Z, JALILIAN R, BENJAMIN DK, JIANG Z, BAO J, PEI SS, CHEN YP
APPLIED PHYSICS LETTERS
LEE YH, LEE JH
APPLIED PHYSICS LETTERS
WANG HN, STRAIT JH, GEORGE PA, SHIVARAMAN S, SHIELDS VB, CHANDRASHEKHAR M, HWANG J, RANA F, SPENCER MG, RUIZVARGAS CS, PARK J