国家/地区 韩国（2） 美国（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C01（2）
IPC小类 C01B（2）
IPC C01B032/184（2）
发明人 PARK J（2）
公开年
申请年 2018（2）
专利权人 KOREA INST S.（2）

Synthesizing graphene pattern by physically adhering catalyst block including catalyst material to portion of growth substrate, and forming graphene thin film selectively at interface between catalyst block and growth substrate.

PARK J, SIM Y, KIM J, SIM Y M, PARKJAEHYUN

Method for directly synthesizing graphene on surface of target object, involves forming non-metal layer on support substrate, disposing target object in space above support substrate, and injecting carbon precursor to form graphene.

SONG Y, UDDIN M S, PARK J, PARKJAEHYUN