国家/地区 中国（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C30（2）
IPC小类 C30B（2）
IPC C30B029/06（2）
发明人 JU Q（2） MA Y（2） WANG J（2）
WANG W（2）
公开年 2019（2）
申请年 2019（2）
专利权人 SHANGHAI INS.（2）

Single crystal silicon texturing additive comprises graphene oxide quantum dot solution comprising graphene quantum dots having specified size, surfactant, alkali metal hydroxide and/or carbonate, and deionized water.

WANG J, JU Q, MA Y, WANG W

Complex texturing additive comprises graphene, graphene oxide, surfactant, metal ion and solvent.

WANG J, JU Q, WANG W, MA Y