国家/地区 美国（2）
IPC部 C（2） H（2）
IPC大类 C23（2） H01（2）
IPC小类 C23C（2） H01L（2）
IPC C23C016/02（2） C23C016/26（2） H01L021/02（2）
发明人 CHEN E（2）
公开年
申请年
专利权人 APPLIED MATERIALS INC（2）

Improving graphene deposition involves exposing substrate surface to oxygenating plasma to improve substrate surface quality or deposition parameter, where oxygenating plasma comprises oxygen or water, oxygenating plasma is microwave plasma, remote plasma, conductively coupled plasma.

YIEH E Y, NEMANI S D, YING C C, LIANG Q, CHEN E, ZHOU J

Forming graphene layer for improving graphene deposition, involves exposing a substrate surface comprising a dielectric material to a microwave surface-wave plasma comprising hydrocarbon and hydrogen radicals to form graphene layer.

ZHOU J, CHEN E, LIANG Q, YING C C, NEMANI S D, YIEH E Y