国家/地区 韩国（2） 美国（2）
IPC部 G（2） H（2）
IPC大类 H01（2）
IPC小类
IPC
发明人 KIM J（2）
公开年 2016（2）
申请年
专利权人 KIM J（2）

Hard mask composition used for manufacture of hard mask material film, comprises graphene copolymer and solvent.

KIM J, YU N, KIM B, YI S, CHOI J, KIM J H, YU N R, KIM B D, YI S S, CHOI J S

Sample plate for matrix assisted laser desorption ionization time of flight mass spectrometer for measuring molecular weight of e.g. graphene-type high-volatile material, has fixing layer formed on parylene thin film and made of material.

PYUN J, KIM J I, JAECHUL P, JO I K, KIM J