国家/地区 中国（2）
IPC部 H（2）
IPC大类 H01（2）
IPC小类 H01L（2）
IPC
发明人 XIE H（2）
公开年 2016（2）
申请年 2016（2）
专利权人 SHANGHAI INST MICROSYSTEM INFORMATION（2）

Quantum interference device structure for use in sensors and other devices, comprises first superconductor layer and first dielectric layer, graphene layer, second dielectric layer, metal layer and second superconducting layers.

WANG H, XIE H, LI L, YANG P, XIE X, JIANG M

Method for preparing quantum hall device, involves forming superconducting thin film layer on substrate, covering with dielectric thin film layer, and forming graphene layer, followed by forming metal electrode.

WANG H, XIE H, WANG X, XIE X, JIANG M