国家/地区 韩国（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C01（2） G03（2）
IPC小类 C01B（2）
IPC G03F001/22（2） G03F001/62（2）
发明人 KIM C（2）
公开年 2022（2）
申请年
专利权人 FINE SEMITEC.（2）

Pellicle film used for extreme UV lithography, comprises boron nitride nanostructure layer.

CHOI J H, CHO S J, YU L, KIM C, LEE S Y, SEO K W, KIM K S, MOON S Y, KIMCHUNG, SEO K

Pellicle film used in extreme UV lithography, comprises carbyne layer containing structure in which carbyne molecules are entangled by applying coating solution prepared by mixing carbyne molecules and solvent and drying.

CHOI J H, CHO S J, YU L, KIMCHUNG, SEO K, KIM K S, LEE S Y, MOON S Y, KIM C, SEO K W