国家/地区 台湾（2）
IPC部 C（2）
IPC大类
IPC小类
IPC
发明人 LEE W（2）
公开年
申请年
专利权人

Composition used for fabricating semiconductor structure on semiconductor device for removing metal-containing layer of pellicle structure, comprises water, oxidizing agent(s), and acid(s).

CHEN C, CHANG C, LEE Y, LIU W D, WINDOW C, LEE W, LU W, LIU W, LI Y, ZHANG Z, CHEN Z

Method of transferring graphene layer provides a method for transferring graphene layer.

LIN W, CHEN T, SU W, WU C, CHANG C, LEE W