国家/地区 韩国（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C01（2）
IPC小类 C01B（2） C23C（2）
IPC C01B032/184（2）
发明人
公开年 2022（2）
申请年 2022（2） 
专利权人

Manufacture of shadow mask, involves forming buffer layer, depositing metal layer, forming amorphous carbon layer and crystalline carbon layer, removing amorphous carbon layer and metal layer, and separating buffer layer and crystalline carbon layer.

MOON S I, KWON Y, WOOK Y B, MOON J, KIM K S, LEE S M

Manufacturing wrinkled graphene comprises immersing polymeric substrate, wrinkled graphene, polystyrene sulfonic acid, or polystyrene substrate in water to remove polystyrene substrate by dissolving polystyrene sulfonic acid substrate.

HONG S, NARUTE P, NARUTEPHRASANT