国家/地区 韩国(5) 世界知识产权组织(3) 美国(2)
IPC部 D(7)
IPC大类 D01(7) H01(3) C01(2)
C09(2) G01(2)
IPC小类 D01D(7)
IPC D01D005/06(7)
发明人 CHO Y J(5) PARK S Y(5) CHO K(4)
KIM H(4) CHO K R(3) KIM H J(3)
SHIN M K(3) YEO C S(3) CHO Y(2)
HUN C S(2) JIN K H(2) JU S H(2)
KIM Y S(2) KYOON S M(2) KYUNG L(2)
公开年 2017(2) 2018(2) 2020(2)
申请年 2017(4) 
专利权人 PURITECH CO LTD(7)