国家/地区 | 韩国(5) 世界知识产权组织(3) 美国(2) |
IPC部 |
D(7)![]() |
IPC大类 |
D01(7)
H01(3)
C01(2)
C09(2) G01(2) |
IPC小类 |
D01D(7)![]() |
IPC |
D01D005/06(7)![]() |
发明人 |
CHO Y J(5)
PARK S Y(5)
CHO K(4)
KIM H(4) CHO K R(3) KIM H J(3) SHIN M K(3) YEO C S(3) CHO Y(2) HUN C S(2) JIN K H(2) JU S H(2) KIM Y S(2) KYOON S M(2) KYUNG L(2) |
公开年 | 2017(2) 2018(2) 2020(2) |
申请年 | 2017(4) |
专利权人 |
PURITECH CO LTD(7)![]() |
PARK S Y, SU Y C, CHO Y J, CHO K, JIN K H, KYUNG L, KIM H, HUN C S, KIM Y S, KYOON S M, YOO J, JU S H
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
PARK S Y, SU Y C, CHO Y J, CHO K, JIN K H, KYUNG L, KIM H, HUN C S, KIM Y S, KYOON S M, YOO J, JU S H
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R