国家/地区 美国（2）
IPC部 B（2） C（2） H（2）
IPC大类 B05（2） C01（2） H01（2）
IPC小类 B05D（2） C01B（2） H01J（2）
IPC C01B031/04（2）
发明人
公开年 2015（2）
申请年
专利权人

Manufacturing graphene film involves providing substrate, distributing graphene slurry on substrate, causing graphene slurry to distribute on substrate, and treating graphene slurry with atmosphere pressure plasma jet.

CHENG I, CHEN J, HSU C, CHOU P, LIU H, CHANG H, LIANG S, WU T, CHENG I C, CHEN J Z, HSU C C, CHOU P T, LIU H W, LIANG S P, WU T J

Etching method of graphene, involves etching exposed portions of graphene to form etched graphene structure, after applying resist to surface of graphene opposite to patterned substrate.

ANDERSON K, SJONG A