国家/地区 中国（3） 台湾（3） 美国（3）
IPC部 C（3）
IPC大类 C01（3）
IPC小类 C01B（3）
IPC C01B031/04（3）
发明人 LIN H（3）
公开年 2013（3）
申请年 2012（2） 
专利权人 LIN H（2） QUE Y（2） UNIV NAT TSI.（2）

Making graphene layer used as transparent electrode layer in optoelectronic devices, comprises e.g. forming metal layer on first side of substrate, forming carbon source layer on metal layer and irradiating second side of substrate by laser.

CHUEH Y, DING J, LIN H, HUANG Y, QUE Y

Producing graphene, comprises optionally forming a metal layer on a substrate, providing carbon source to form carbon-containing layer, and performing a treatment by low-frequency electromagnetic wave using microwave generator.

CHUEH Y, YEN W, LIN H, QUE Y, YAN W, CHUEH Y L, YEN W C, LIN H C

Fabricating patterned graphene, comprises forming catalytic layer on substrate and carbon layer of e.g. iron on catalytic layer, photolithographically etching on carbon layer and heating obtained layer to form patterned graphene layer.

SUNG C, LIN I, LIN H, LIN Y, SONG J