国家/地区 | 美国(5) 中国(2) |
IPC部 |
C(6)![]() |
IPC大类 |
D01(6)![]() |
IPC小类 |
D01D(6)![]() |
IPC |
D01F009/12(6)![]() |
发明人 |
CHO K(2)
CHO Y(2)
KIM H(2)
PARK S(2) SHIN M(2) YEO C(2) |
公开年 | 2015(2) 2021(2) |
申请年 | 2019(2) |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
LEE J, PARKJAEHYUN, KIM H S
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
WU M Y, HSIEH C, CHEN J, HSIEH S, XIE S, WU Y, XIE C, HSIEH C Y, CHEN J R, HSIEH S L