国家/地区 |
世界知识产权组织(6)![]() |
IPC部 |
C(6)![]() |
IPC大类 |
C01(6)
D01(6)
B82(2)
D02(2) D06(2) |
IPC小类 |
C01B(6)![]() |
IPC |
D01D010/06(6)![]() |
发明人 |
SHIN M K(3)
CHO K R(2)
CHO Y J(2)
KIM H J(2) PARK S Y(2) YEO C S(2) |
公开年 | 2017(2) |
申请年 | 2017(2) |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
JOMPHOAK A, JARUWONGRUNGSEE K, NUNTAWONG N, POGFAY T, WAIWIJIT U, MATUROS DANIELS T, JARIYAKUN K, PONGSAKSAWAD W, KHAMSUK P
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
ZHOU X, XU Y, GAO C, XU Z
KIM S J, SHIN M K, KIM S H, JEONG K S, KYOON S M, HYEONG K S
KOENDERS B M, MEERMAN J J, KAMPERMAN S M, WAARBEEK TER R F, JONG DE J, RADIER A A T, OTTO M J, WAARBEEK T R F, JONG D J, MEERMAN YA Y, JONG D Y, OTTO M YA