国家/地区 美国(3) 中国(2) 世界知识产权组织(2)
IPC部 C(5)
IPC大类 C09(5) D01(5) H01(3)
G01(2)
IPC小类 C09D(5)
IPC D01D005/06(5)
发明人 CHO K(2) CHO Y(2) KIM H(2)
PARK S(2) SHIN M(2) YEO C(2)
公开年
申请年
专利权人 AICT(2) PURITECH CO .(2)