国家/地区 | 世界知识产权组织(5) 中国(3) 韩国(3) 美国(3) 澳大利亚(2) 欧洲专利局(EPO)(2) 日本(2) |
IPC部 |
C(7)![]() |
IPC大类 |
C01(7)![]() |
IPC小类 |
C01B(7)![]() |
IPC |
C01B032/182(7)![]() |
发明人 |
CHO K R(2)
CHO Y J(2)
GAO C(2)
KIM H J(2) PARK S Y(2) SHIN M K(2) YEO C S(2) |
公开年 | 2021(4) 2017(2) |
申请年 | 2020(4) 2017(2) |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) UNIV ZHEJIAN.(2) |
SHANDILYA M, KAUR G A, KUMAR S
TRAN T S, ROY CHOUDHURY N, DUTTA N, ROY C N, AWARD T, ROICHOUDURINAMITA, DUTANABA, DUTA N
GUO Z, HUANG H, YANG P, CHEN P, WU J
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R