国家/地区 台湾（3）
IPC部 B（3）
IPC大类 B82（3）
IPC小类 B82Y（3）
IPC B82Y040/00（3）
发明人 FENG X（2） MUELLEN K（2） MULLEN K（2）
SCHVAB M G（2） SCHWAB M G（2） SCHWAB M G S（2）
公开年 2013（2）
申请年 2012（2） 
专利权人 BASF AG（2） BASF CHINA C.（2） BASF SE（2） MAX PLANCK G.（2）

Composition used in forming thin film, comprises chemical contrast pattern having first region of first chemistry on background of second chemistry, and microphase-separated block copolymer material overlying the chemical contrast pattern.

ARNOLD M, JACOBBERGER R, NEALEY P, XIONG S, CHANG T, MA Z, NEALEY P F

New oligophenylene monomer useful for preparing a polymeric precursor for producing graphene nanoribbons useful in an electronic, optical, or optoelectronic device.

SCHWAB M G, NARITA A, FENG X, MUELLEN K, MULLEN K, SCHWAB M G S, SCHVAB M G, MILLEN K

New graphene nanoribbon precursors comprising polycyclic aromatic hydrocarbon repeat units, used in graphene nanoribbons for field-effect transistors.

SCHWAB M G S, MUELLEN K, FENG X, DOESSEL L, SCHWAB M G, MULLEN K, DOSSEL L, SCHVAB M G