国家/地区 韩国（2） 美国（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C23（2）
IPC小类 C23C（2）
IPC C23C016/44（2）
发明人
公开年
申请年 2021（2）
专利权人

Apparatus for depositing two-dimensional material, comprises planar high-frequency antenna formed on second surface of dielectric window, and first gas nozzle configured to provide source gas into chamber.

SHIN H, SHIN K, LEE C, LEE C S, SHIN K W, SHIN H J

Forming layer, comprises e.g. exposing substrate to aromatic precursor in processing chamber, rinsing aromatic precursor from processing chamber, and heating substrate deposit graphene hard mask layer on substrate.

BHUYAN B J, LEONCINI A