国家/地区 世界知识产权组织（2）
IPC部 B（2）
IPC大类 B82（2）
IPC小类 B82Y（2） C23C（2）
IPC B82Y040/00（2） C23C016/02（2） C23C016/26（2）
C23C016/50（2）
发明人
公开年 2023（2）
申请年 2022（2）
专利权人

Depositing graphene or graphene oxide onto substrate from gaseous source of carbon precursor involves using plasma-enhanced chemical vapor deposition method, where carbon precursor consists of ethylene and the process is carried out in absence of carrier gas.

JOUIAD M, EL MARSSI M, LEJEUNE M

Depositing nano-graphene comprises flowing hydrocarbon precursors into reaction chamber to adsorb onto metal layer of substrate at specific temperature, where metal layer interacts with adsorbed hydrocarbon precursor.

SHARMA K, VARADARAJAN B N