国家/地区 美国(4) 中国(3) 世界知识产权组织(3)
IPC部 C(7)
IPC大类 C09(7)
IPC小类 C09D(7)
IPC D01D005/06(4) D01F009/12(4) H01G011/36(3)
H01G011/40(3) H01G011/86(3) H01M004/583(3)
B01J013/00(2) C01B032/19(2) C01B032/194(2)
C09D005/24(2) C09D005/44(2) C09D007/61(2)
C09D011/52(2) D01D005/00(2) H01M004/04(2)
发明人 CHO K(2) CHO Y(2) KIM H(2)
PARK S(2) SHIN M(2) YEO C(2)
公开年 2021(3) 2015(2)
申请年 2014(2)  2020(2) 
专利权人 AICT(2) PURITECH CO .(2)