首页
论文数据库
SCI论文数据库
中文期刊数据库
硕博士论文数据库
专利库
专家库
企业库
产品库
登录
搜索
国家/地区
IPC部
C(2)
IPC大类
C01(2)
IPC小类
C01B(2)
IPC
C01B032/182(2)
发明人
公开年
2022(2)
申请年
2020(2)
专利权人
Optical element for use with electromagnetic radiation at specific wavelength in ultraviolet, extreme ultraviolet or soft X-ray bands, comprises reflective, transmissive, protective, interdispersed or capping layer coating with materials.
JAISWAL S
Producing pellicle structure useful for protecting photomask in semiconductor integrated circuits, comprises e.g. forming lower protective layer on entire surface of substrate, and forming amorphous thin film on lower protective layer.
KIM K B
上一页
当前第
1
页 共
2
条
下一页