国家/地区 |
美国(6)![]() |
IPC部 |
B(6)![]() |
IPC大类 |
B01(6)![]() |
IPC小类 |
B01D(6)![]() |
IPC |
B01D067/00(6)![]() |
发明人 |
PARK H(3)
PARK H G(3)
CHOI K(2)
HEIGHT M(2) |
公开年 | 2021(2) |
申请年 | 2020(2) |
专利权人 | HEIQ MATERIA.(2) |
AGRAWAL K V, HUANG S, HSU K, AGRAWAL K, HWANG S, HUSH K, XU G
CHOI K, PARK H G, HEIGHT M, CHOI K J, PARK H, PIAO H
PARK H G, HEIGHT M, CHOI K, PARK H
LEE C, KYE J, PARK H G, WYSS R M, PARK H