国家/地区 美国（2）
IPC部 B（2）
IPC大类 B01（2） B82（2）
IPC小类 B01J（2）
IPC B01J037/08（2）
发明人
公开年 2011（2）
申请年 2010（2） 
专利权人

Fabricating graphene to fabricate FET, comprises forming alloy catalyst layer on substrate using sputtering method and/or evaporation method, and forming graphene layer on alloy catalyst layer by supplying hydrocarbon gas onto substrate.

WOO Y, SEO D, SEO S, CHUNG H, KANG S, HEO J, SEO S A, CHUNG H J, KANG S R, HEO J S, WOO Y S, JUNG H J, HUH J S, YEO R, XU D, HUH J, JUNG H

Preparing silicon intercalated epitaxial monolayer graphene comprises growing large scale high-quality graphene on metal surface, depositing silicon on the prepared epitaxial graphene and annealing to high temperature.

GAO H, PAN Y, GAO M, MAO J, HUANG L, ZHOU H, WANG Y, GUO H, DU S