国家/地区 韩国（2）
IPC部 B（2）
IPC大类 B82（2）
IPC小类 B82B（2）
IPC B82B003/00（2） C01B031/04（2） C23C016/18（2）
发明人 JEONG S（2）
公开年 2014（2）
申请年 2014（2）
专利权人 UNIV SUNGKYU.（2）

Graphene pattern formation method involves forming DNA pattern, and forming graphene pattern on DNA pattern.

JEONG S, LEE J, PARK I K, PARK J H, PARK S, ROH Y, YEON S

Patterning a graphene in the manufacturing of semiconductor chip, by forming a DNA pattern and forming graphene on pattern, where pattern is formed by forming metal ion pattern on a substrate and adsorbing a DNA structure on ion pattern.

JEONG S, LEE J, PARK I K, PARK J H, PARK S, ROH Y, YEON S