国家/地区 韩国（2）
IPC部 B（2）
IPC大类 B82（2）
IPC小类 B82B（2）
IPC B82B003/00（2）
发明人 JEONG S（2） LEE J（2） PARK I K（2）
PARK J H（2） PARK S（2） ROH Y（2）
YEON S（2）
公开年 2014（2）
申请年 2014（2）
专利权人 UNIV SUNGKYU.（2）

Graphene pattern formation method involves forming DNA pattern, and forming graphene pattern on DNA pattern.

JEONG S, LEE J, PARK I K, PARK J H, PARK S, ROH Y, YEON S

Patterning a graphene in the manufacturing of semiconductor chip, by forming a DNA pattern and forming graphene on pattern, where pattern is formed by forming metal ion pattern on a substrate and adsorbing a DNA structure on ion pattern.

JEONG S, LEE J, PARK I K, PARK J H, PARK S, ROH Y, YEON S